北方华创申请半导体工艺腔室专利，解决晶舟最外侧舟页清洗效果差的问题

金融界2025年5月5日消息，国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“半导体工艺腔室”的专利，公开号CN119923007A，申请日期为2023年10月。

专利摘要显示，本发明公开一种半导体工艺腔室，所公开的半导体工艺腔室包括腔室本体、支撑组件、晶舟、第一电极组件、第二电极组件和辅助清洗工装，其中，支撑组件设于腔室本体内，用于支撑晶舟，晶舟包括多个依次间隔排布的舟页，半导体工艺腔室包括清洗模式；在半导体工艺腔室处于清洗模式的情况下，晶舟支撑于支撑组件，辅助清洗工装与晶舟的最外侧的舟页相对、且间隔设置，晶舟的最外侧的舟页与第一电极组件电连接，辅助清洗工装与第二电极组件电连接。上述方案可以解决相关技术中的半导体工艺腔室对晶舟的最外侧的舟页清洗存在清洗效果较差的问题。

天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1028次，财产线索方面有商标信息61条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可340个。

本文源自：金融界

作者：情报员