上海用采取得单晶硅片抛光装置专利，提高单晶硅加工精度

金融界2025年5月7日消息，国家知识产权局信息显示，上海用采电子有限公司取得一项名为“一种单晶硅片抛光装置”的专利，授权公告号CN222818610U，申请日期为2024年6月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种单晶硅片抛光装置，包括装置本体，装置本体包括安装箱、固定平台、打磨装置和调节装置，固定平台安装在安装箱顶部，打磨装置安装在固定平台顶部，调节装置安装在安装箱内；固定平台包括底板、侧限位板和挡板，侧限位板设有一组，一组侧限位板分别位于底板顶部左端和右端，侧限位板底部设有耐磨贴合垫片，底板内部开设有安装槽，挡板位于安装槽一端，底板、侧限位板和挡板均为平滑过渡且一体加工成型结构，安装槽表面开设有操作口，操作口为贯通式结构。该种装置可以有效的将单晶硅进行限位，从而防止单晶硅在加工时出现移位的情况发生，大大提高了单晶硅加工的精度。

天眼查资料显示，上海用采电子有限公司，成立于2018年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，上海用采电子有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目1次，专利信息17条，此外企业还拥有行政许可1个。

本文源自：金融界

作者：情报员