南亚科技申请存储器装置与其制造方法专利，增加单元触点与晶体管之间的接触面积

金融界2025年5月9日消息，国家知识产权局信息显示，南亚科技股份有限公司申请一项名为“存储器装置与其制造方法”的专利，公开号CN119947084A，申请日期为2024年2月。

专利摘要显示，一种存储器装置包含基板、字元线、字元线帽盖层、着陆垫、单元触点与位元线。字元线埋在基板中且沿第一方向延伸。字元线帽盖层在字元线上。着陆垫在基板与字元线帽盖层上，并接触基板与字元线帽盖层。单元触点在着陆垫上并接触着陆垫。位元线在字元线上并沿第二方向延伸，第二方向垂直第一方向。单元触点与晶体管之间的接触面积增加，因此晶体管与对应的电容可被良好地连接。因此，单元触点不需完美地与晶体管重叠。

本文源自：金融界

作者：情报员