全芯智造申请用于光刻模拟的方法设备和介质专利，实现光刻模拟效果提升

金融界2025年5月5日消息，国家知识产权局信息显示，全芯智造技术有限公司申请一项名为“用于光刻模拟的方法、设备和介质”的专利，公开号CN119916655A，申请日期为2025年4月。

专利摘要显示，本公开的实施例涉及用于光刻模拟的方法、设备和介质。在此提出的方法包括：从初始光学信号中，确定与光刻工艺中的多次光刻对应的多个光学信号分量；基于多次曝光各自对应的工艺参数，对多个光学信号分量中的各个光学信号分量进行调整，以确定与光刻工艺有关的目标光学信号；以及至少基于目标光学信号，确定光刻胶在经过光刻工艺后的模拟形貌。

天眼查资料显示，全芯智造技术有限公司，成立于2019年，位于合肥市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本18518.5196万人民币。通过天眼查大数据分析，全芯智造技术有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目56次，财产线索方面有商标信息197条，专利信息183条，此外企业还拥有行政许可5个。

本文源自：金融界

作者：情报员