拓荆创益申请晶圆翘曲度检测专利，确定晶圆翘曲度

金融界2025年4月10日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司申请一项名为“晶圆翘曲度的检测装置、加工设备、方法及存储介质”的专利，公开号 CN 119786369 A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本发明提供了晶圆翘曲度的检测装置、加工设备、方法及存储介质。检测装置包括：单色光源用于提供检测光束。至少三个半反半透镜用于获取检测光束，并将其反射到对应的反光镜，再将检测光束传输到对应的光纤和下一个半反半透镜。至少三个反光镜分别用于检测光束，以形成参考光束，并将其传输到对应的探测器。至少三根光纤分别用于将检测光束传输到至少三个检测窗口，经由各检测窗口照射待测晶圆的对应被测点，以反射形成物体光束，并将其传输到对应的探测器。至少三个探测器分别用于采集参考光束及物体光束。处理器连接各探测器，用于根据干涉条纹图像中的条纹数量，确定待测晶圆的各对应被测点到晶圆托盘表面的距离，并据此确定晶圆的翘曲度。

天眼查资料显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，成立于2023年，位于沈阳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本50000万人民币，实缴资本36168.02万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司参与招投标项目12次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息274条，此外企业还拥有行政许可10个。

本文源自：金融界

作者：情报员